碳方程新材料公司在CVD长晶设备研发生产上形成了完善的设备及产品体系,并且在CVD金刚石实验室生长工艺研发上取得了突破性的进展,以“设备+工艺”为方针,相互引导,相互依托,以规模生产为研发基石,共筑”MPCVD”生产技术蓝图。

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TFC-10800D

TFC-10800D

TFC-10800D,微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)设备是最先进的 CVD系统。针对用户的具体要求设计和研制的一台多用途、高稳定中等压强微波等离子体(MPCVD)综合设备。它具有智能化生长、性能先进、功能完善、结构合理,使用方便、安全可靠、外形美观等特点,特别适合应用于单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积;材料表面处理和改性;低温氧化物的生长等领域。 了解详情
TFC-10800C

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TFC-6500B

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TFC-6650C

TFC-6650C

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金刚石热沉片

金刚石热沉片

金刚石热沉片是继硅、砷化镓、磷化铟、氮化镓等之后的重要半导体材料之一,可用于重要的半导体器件,在生物检测和医疗、平板显示、环保工程、功能器件等多个高新技术领域都有巨大的应用潜力。金刚石材料的热导率和电学特性优势十分显著,没有任何明显短板,其热导率可达2000W/m.k,是铜、银的5倍,又是良好的绝缘体,这也使得金刚石器件拥有更高的功率处理能力。 了解详情
金刚石光学片

金刚石光学片

金刚石光学片作为一种光学器件,通过微波等离子体化学气相沉积工艺,将金刚石的卓越光学性能与力学、热学、电学和化学性能相结合。这种合成窗口具备不同几何结构,使其能在极端条件下发挥作用。金刚石光学片主要应用于X射线、深紫外到微波范围内。金刚石光学窗口可以应用于各种光学元件、制备高功率激光器的发射窗口及激光晶体、大功率紫外/红外光学仪器的镜头、探测器和传感器等。 了解详情

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