碳方程公司产品

TFC-10800D

TFC-10800D，微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）设备是最先进的 CVD系统。针对用户的具体要求设计和研制的一台多用途、高稳定中等压强微波等离子体（MPCVD）综合设备。它具有智能化生长、性能先进、功能完善、结构合理，使用方便、安全可靠、外形美观等特点，特别适合应用于单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积；材料表面处理和改性；低温氧化物的生长等领域。 了解详情

TFC-10800C

TFC-10800C，微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）设备是最先进的 CVD系统。针对用户的具体要求设计和研制的一台多用途、高稳定中等压强微波等离子体（MPCVD）综合设备。它具有智能化生长、性能先进、功能完善、结构合理，使用方便、安全可靠、外形美观等特点，特别适合应用于单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积；材料表面处理和改性；低温氧化物的生长等领域。 了解详情

TFC-6500B

TFC-6500B，微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）设备是最先进的 CVD 系统。针对用户的具体要求设计和研制的一台多用途、高稳定中等压强微 波等离子体（MPCVD）综合设备。它具有智能化生长、性能先进、功能完 善、结构合理，使用方便、安全可靠、外形美观等特点，特别适合应用于 单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积；材料表面处理和改性；低温氧化物的生长等领域。 了解详情

TFC-6650C

TFC-6650C，微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）设备是最先进的 CVD 系统。针对用户的具体要求设计和研制的一台多用途、高稳定中等压强微波等离子体综合设备。它具有智能化生长、性能先进、功能完 善、结构合理，使用方便、安全可靠、外形美观等特点，特别适合应用于单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积；材料表面处理和改性；低温氧化物的生长等领域。 了解详情

金刚石热沉片

金刚石热沉片是继硅、砷化镓、磷化铟、氮化镓等之后的重要半导体材料之一，可用于重要的半导体器件，在生物检测和医疗、平板显示、环保工程、功能器件等多个高新技术领域都有巨大的应用潜力。金刚石材料的热导率和电学特性优势十分显著，没有任何明显短板，其热导率可达2000W/m.k，是铜、银的5倍，又是良好的绝缘体，这也使得金刚石器件拥有更高的功率处理能力。 了解详情

金刚石光学片

金刚石光学片作为一种光学器件，通过微波等离子体化学气相沉积工艺，将金刚石的卓越光学性能与力学、热学、电学和化学性能相结合。这种合成窗口具备不同几何结构，使其能在极端条件下发挥作用。金刚石光学片主要应用于X射线、深紫外到微波范围内。金刚石光学窗口可以应用于各种光学元件、制备高功率激光器的发射窗口及激光晶体、大功率紫外/红外光学仪器的镜头、探测器和传感器等。 了解详情